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真空镀膜,什么是真空镀膜?

2024-10-27

真空镀膜是一种在真空环境下,通过物理或化学方法在材料表面沉积一层薄膜的技术。该技术可以在材料表面形成各种功能性薄膜,如金属膜、半导体膜、光学膜、磁性膜等,从而改变材料的物理、化学和光学性质。


真空镀膜的过程通常包括以下几个步骤:
抽真空:将待镀膜的材料放入真空室中,通过真空泵将室内的气体抽出,使室内压力降低到一定程度,以保证镀膜过程中薄膜的质量。
加热:将待镀膜的材料加热到一定温度,以增加材料表面的活性,有利于薄膜的沉积。
蒸发:将镀膜材料加热至蒸发温度,使其蒸发成气态。
沉积:气态的镀膜材料在真空中向待镀膜的材料表面迁移,并在材料表面沉积形成薄膜。
冷却:沉积完成后,将材料冷却至室温,以固定薄膜的性质。
真空镀膜技术具有成膜速度快、薄膜质量高、可以在复杂形状的材料表面成膜等优点,广泛应用于电子、光学、机械、化工、航空航天等领域。